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第1520章 这项技术的成功将是对综合国力的提升。(2/2)

和进步。简单来说,这就是一个复杂的系统性工程,需要各方面全面发展才行。

对于我们来说,现阶段我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程EUV光刻机的生产,使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求,解决芯片紧缺这个紧要问题。

虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距,但这个差距其实并不大。就现阶段来说,完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。

而另一方面,我们也需要吃透和消化5纳米制程EUV光刻机研制成功经验,为下一步研发更高制程EUV光刻机奠定基础。”


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